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  • 我公司采用國際先進的兩級反滲透裝置,配套進口混合(hé)離子交換設備或EDI設備和紫外線滅菌器、保安過濾器,出水水質符合電子部超純水水質標準(18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四級(jí)),取代蒸餾水(shuǐ),滿足大專院校、科研機構和工業企業的實驗、科研和生產對高純度純水(shuǐ)的要求。

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產品簡介

我公(gōng)司采用國際先進的(de)兩級反滲透裝置,配套進口混合離子交換設備或EDI設備和紫外線滅菌器、保安過濾器,出水水質符合電子部超純水水質標準(18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和(hé)0.5MΩ·cm四級),取代蒸餾水,滿足大專院校、科(kē)研機構和工(gōng)業企業的實驗、科研和生(shēng)產對高純度純水(shuǐ)的要求。

該設備廣泛應用於電鍍工藝去離子水、電池生產工藝用純(chún)水、汽車、家用電器、建材產(chǎn)品(pǐn)表麵塗裝(zhuāng)、清洗純水、鍍膜(mó)玻璃用(yòng)純水、紡(fǎng)織印(yìn)染工藝所需的除硬除鹽水(shuǐ)係統。超純水製造技術(shù)的發展極大(dà)地推動了半導體和電子工業的技術發展。綜合膜技術、紫外線、離子交換、超濾等技術,有效(xiào)滿足對總有機碳、矽、電阻率、微粒、細菌、金屬離子、溶(róng)解氧(yǎng)指標等(děng)的特殊要求。

工藝流程:

方案一:預處理—反滲透—初混床—精混床—終端後(hòu)處理

方案二:預處理—二級反滲透—EDI—終端後處理

方案三:預處理—二級反滲透—EDI—膜脫(tuō)氣—拋光混床(chuáng)—終端後處理

水質標準:

根據客戶要求可達(dá)到(dào)以下標準:符合美國ASTM標準,電子部(bù)超純水水質標準(18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四級)


技術參數

適用(yòng)範圍

1.電子材料加工、單晶矽半導體、半導體材料、液(yè)晶(jīng)顯示器、計(jì)算機硬盤、印刷電路(lù)板、集(jí)成電路;

2.LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像(xiàng)管;

3.超純材料和超純化學劑導纖維和(hé)光盤;

4.汽車、家電表(biǎo)麵電泳漆清洗用水及其它高科技產品實驗(yàn)室和中試車間;

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